专利则是用于保护发明的新技术、产品或设计。专利则需要进行正式的申请程序，包括提交申请文件、缴纳费用、进行审查等程序。而专利会在申请获得批准后被公开，使得其他人可以了解技术的内容。专利侵权则可以通过法律手段进行追究，包括索赔损失和禁止侵权行为。
商业秘密和专利都是知识产权的一种形式，但它们有一些重要的区别。
1. 保护对象：商业秘密主要用于保护商业上的机密信息，例如产品配方、客户清单或市场策略等。专利则是用于保护发明的新技术、产品或设计。
2. 保护期限：商业秘密的保护期限没有固定时间，只要保持机密性即可。而专利通常有固定的保护期限，例如在美国，实用新型专利的保护期限为15年，发明专利的保护期限为20年。
3. 申请要求：商业秘密不需要进行正式的申请程序，只要信息保持机密即可。专利则需要进行正式的申请程序，包括提交申请文件、缴纳费用、进行审查等程序。
4. 公开性：商业秘密通常保持机密状态，只有掌握机密信息的人知道其内容。而专利会在申请获得批准后被公开，使得其他人可以了解技术的内容。
5. 可保护范围：商业秘密可以保护任何类型的商业机密信息，只要符合一定的机密标准。专利只能保护符合特定条件的新技术、产品或设计。
6. 违法后果：商业秘密泄露后，无论是有意还是无意的泄露，都可能导致商业损失。专利侵权则可以通过法律手段进行追究，包括索赔损失和禁止侵权行为。
需要注意的是，商业秘密和专利可以同时使用。某些技术或产品可能既可以通过商业秘密进行保护，又可以通过专利来保护。