而商业秘密不需要公开，保持秘密状态。商业秘密一般是特定企业或组织所使用和控制的，其他人无权获取、使用或泄露该商业秘密。而商业秘密只需要保持秘密状态即可，无需特殊的申请程序。商业秘密的保护主要依靠商业合同、保密协议以及不正当竞争法等法规。
专利和商业秘密是两种不同的知识产权保护形式，它们有以下几点具体差别体现：
1. 揭示程度：专利需要公开发明创造的细节，包括技术方案，具备新颖性、创造性和实用性。而商业秘密不需要公开，保持秘密状态。
2. 保护期限：专利的保护期限一般为20年，商业秘密的保护期限没有固定的时间限制，只要保持秘密状态就能持续保护。
3. 受保护范围：专利的受保护范围是固定的，他人无权在专利权利要求书范围内使用，制造或销售该发明。商业秘密一般是特定企业或组织所使用和控制的，其他人无权获取、使用或泄露该商业秘密。
4. 取得难易度：专利需要进行专利申请，并经过审查批准后才能获得保护，需要满足一定的创新水平和技术要求。而商业秘密只需要保持秘密状态即可，无需特殊的申请程序。
5. 法律保护：专利拥有人可以通过法律手段对侵权行为进行追究和维权，一旦侵权会进行司法追究。商业秘密的保护主要依靠商业合同、保密协议以及不正当竞争法等法规。
总体而言，专利适用于创新性技术和发明，特别适用于需要公开披露以换取专利权保护的场景；商业秘密适用于商业机密，即具有经济利益的商业信息或技术，不需要公开，但需要保持秘密状态以保持竞争优势。