专利和商业秘密是知识产权保护的两种不同形式。而商业秘密没有特定的法律程序，仅依赖于保密措施来确保保密。而商业秘密不需要公开揭示，可以保持保密而不被公众知晓。而商业秘密无需提供详细的信息，只需采取合理的保密措施。综上所述，专利和商业秘密在法律保护、保护范围、保护期限、揭示要求和证明要求等方面有明显不同的表现。
专利和商业秘密是知识产权保护的两种不同形式。下面是它们之间的几种不同表现：
1. 法律保护：专利是通过法律程序获得保护的，只有获得专利权的人才能在专利权期限内独自使用和销售发明。而商业秘密没有特定的法律程序，仅依赖于保密措施来确保保密。
2. 保护范围：专利提供了对特定发明的独占性使用权，可以防止其他人在专利权期限内复制、制造或销售该发明。而商业秘密可以涵盖广泛的商业信息，包括技术、流程、客户清单、营销策略等。
3. 保护期限：专利的保护期限通常在20年左右，到期后该发明进入公有领域，其他人可以自由使用。而商业秘密没有特定的保护期限，只要保持秘密性，就可以一直被保护。
4. 揭示要求：专利要求发明必须公开揭示其技术细节，即使获得专利保护，但技术细节仍会成为公众知识。而商业秘密不需要公开揭示，可以保持保密而不被公众知晓。
5. 证明要求：申请专利需要提交详细的技术规格说明书，经过审查和授权才能获得专利权。而商业秘密无需提供详细的信息，只需采取合理的保密措施。
综上所述，专利和商业秘密在法律保护、保护范围、保护期限、揭示要求和证明要求等方面有明显不同的表现。