专利是一项在国家专利机构注册的独立发明或创新，它对发明的权利进行保护。专利通过在专利机构注册和公开来保护。专利的保护范围主要针对他人在专利权利要求范围内从事的制造、使用、销售等行为。专利的保护成本较高，包括申请费用、检索费用和年费等。企业需要根据自身情况和需求来选择合适的知识产权保护方式。
商业秘密和专利是知识产权制度的两个不同概念，它们具有以下不同之处：
1. 定义：商业秘密是指某企业保持秘而不宣的商业信息，包括技术、流程、客户数据等具有商业价值的知识。专利是一项在国家专利机构注册的独立发明或创新，它对发明的权利进行保护。
2. 保护方式：商业秘密通过保密措施来保护，例如限制人员接触、签署保密协议等。专利通过在专利机构注册和公开来保护。
3. 保护时效：商业秘密保护没有时效限制，只要保持秘密即可。专利保护有一定的时效，一般为20年。
4. 披露要求：商业秘密不需要对公众披露，保持秘密即可。专利需要在专利申请时向专利机构披露发明的技术和背景。
5. 权利范围：商业秘密的保护范围主要针对未经许可的商业使用、披露和获取。专利的保护范围主要针对他人在专利权利要求范围内从事的制造、使用、销售等行为。
6. 保护成本：商业秘密相对来说成本较低，主要是通过内部安全措施来保护。专利的保护成本较高，包括申请费用、检索费用和年费等。
综上所述，商业秘密和专利在定义、保护方式、保护时效、披露要求、权利范围和保护成本等方面存在明显差异。企业需要根据自身情况和需求来选择合适的知识产权保护方式。