综上所述，专利和商业秘密在获取方式、保护期限、保护范围、公开要求、证明和保护负担以及法律保护措施等方面有所不同。根据具体情况，企业可以选择适合自身需求的知识产权保护方式。
专利和商业秘密是知识产权领域中两种不同的保护方式，其区别主要表现在以下几个方面：
1. 获取方式：专利需要通过申请并获得授权才能取得保护，而商业秘密则可以通过保持机密性来获得保护，无需申请。
2. 保护期限：专利的保护期限一般为20年，商业秘密则可以保持无限期的保密性，直到被泄露或公开。
3. 保护范围：专利保护的是发明、实用新型和外观设计等技术性创新，通常具有较高的创新门槛；商业秘密则可以涵盖各种非公开的商业信息，如经营策略、生产流程、客户信息等。
4. 公开要求：专利需要在申请后进行公开，申请中公开的技术信息可以向公众使用，商业秘密则要求保持机密性，不得公开。
5. 证明和保护负担：专利需要提供相关技术资料和证明文件来证明其新颖性和非显性性，商业秘密则无需提供证明，但需要采取合理的保密措施来保护机密性。
6. 法律保护措施：专利权利人可以通过侵权诉讼等法律手段来保护其权益，商业秘密的保护则依赖于非揭露协议和保密协议等合同法律制度。
综上所述，专利和商业秘密在获取方式、保护期限、保护范围、公开要求、证明和保护负担以及法律保护措施等方面有所不同。根据具体情况，企业可以选择适合自身需求的知识产权保护方式。